Oczyszczanie gazów

TECHNOLOGIA

 

 

W oryginalnym rozwiązaniu Spółki ATON-HT oczyszczane gazy tłoczone są przez komorę procesową wypełnioną kształtkami ze specjalnej ceramiki, która odporna jest na wysokie temperatury i która silnie pochłania mikrofale. Kształtki ceramiczne nagrzewane do wysokich temperatur (900°C-1400°C) powodują turbulentny przepływ oczyszczanych gazów jednocześnie silnie je nagrzewając. W tych kontrolowanych warunkach skutecznie dopalane są wszystkie zanieczyszczenia organiczne i termicznie unieszkodliwiane  pyły, w tym pyły azbestowe. Opisany system pozwala również na bardzo skuteczne usuwanie odorów.

 

Innym sposobem oczyszczania gazów zawierających niebezpieczne i bardzo trwałe substancje jest system z rotującą plazmą gazową.

 

 

 

Mikrofale pomagają dopalać zanieczyszczenia w gazach.

 

 

 

 

URZĄDZENIA

 

 

ATON 2 MOS

 

ATON 2 MOS ma na celu dopalenie związków organicznych (węglowodorów) oraz innych lotnych substancji chemicznych, które są emitowane w trakcie typowych procesów spalania (np. spalarnie). Związki organiczne poddane wysokiej temperaturze (ok. 1000°C) w obecności kulek ceramicznych, które silnie pochłaniają mikrofale, są utleniane. 

 

 

 

ROTUJĄCA PLAZMA ŁUKOWA - oczyszczanie gazów

 

Istota oryginalnej metody oczyszczania gazów polega na wstępnym nagrzewaniu oczyszczanych gazów w komorze wlotowej do temperatury co najmniej 400 ºC - 800ºC za pomocą konwencjonalnych palników gazowych lub olejowych, a następnie na szybkim termicznym rozkładzie wszystkich związków chemicznych znajdujących się w strumieniu gazów wylotowych oraz ich częściowej dysocjacji i jonizacji w trakcie wymuszonego przejścia przez strefę wzbudzonej plazmy gazowej. 

 

<< powrót